半導体向け新製品

製品紹介

大流量タイプ

SGUシリーズ

主仕様
オゾン濃度 300g/㎥(N)
オゾン流量 140L/min、175L/min、210L/min
外形寸法 W700×D900×H2,154 (140L/min)
冷却水温度 20±2℃
冷却水流量 >48L/min
電源 AC200V  3相
特長
最大210L/minの大流量オゾン生成
高耐圧、長寿命の高信頼性放電セル
早い立上りと優れた濃度応答性
オゾン濃度計と接続し優れた濃度安定性を実現(フィードバック制御)
用途
ALD成膜
SGUシリーズ

超高濃度タイプ

仕様
オゾン濃度 400g/㎥(N)
オゾン流量 20L/min
外形寸法(本体)   W600×D810×H1,850
チラー用冷却水温 30L/min (水温20℃時)
電源 AC200V 3相
特長
400g/㎥(N)以上の高濃度オゾン発生を実現
省フットプリント、コンパクト
水冷式チラー搭載
高耐圧、長寿命の高信頼性放電セル
早い立上りと優れた濃度応答性
オゾン濃度計と接続し優れた濃度安定性を実現(フィードバック制御)
用途
ALD成膜

マルチユニット

GRシリーズマルチユニット

主仕様
オゾン濃度 210g/㎥(N)
オゾン流量 1L/min~14L/min
外形寸法(本体)   W483× H266× D454
冷却水温度 20±2℃
冷却水流量 1~10L/min
電源 AC200V 3相
特長
19インチラックへの搭載が可能なユニットタイプ
流量や圧力の制御機器を内蔵
オゾン濃度計と接続し優れた濃度安定性を実現(フィードバック制御)
高純度/オゾン(オールセラミック構造放電セルを採用)
高耐圧、長寿命の高信頼性放電セル
早い立上りと優れた濃度応答性
用途
半導体、FDP、その他電子デバイス材料のドライプロセス及びウェットプロセス
GRシリーズ