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半导体领域

我司的臭氧发生器和含臭氧的超纯水供给设备在半导体/平面显示屏、性能材料等电子设备等原材料的制造领域中被广泛应用于其先进的制造工艺。

我司一直致力于开发新产品,开发臭氧的高浓度化技术,可应对持续无间断地去除杂质或碎料的需求。

我司的高浓度臭氧发生器在世界上处于同类产品的领先地位,在拥有类似ALD的新氧化膜形成工艺以及化学药品或超纯水的低耗等环保特点领域中,提供清洗或光阻材料剥离技术,可供客户选择。

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