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化合物∕ 氧化膜刻蚀设备

此设备是针对难刻蚀的材料,如高温微机电,下个时代的功率原件所被注目的碳化硅,氮化镓,光导波路原件,使用三氧化铌锂的光学原件等,能够进行高速刻蚀的设备。

photo:化合物∕ 氧化膜刻蚀设备

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