半導體制造領域用

產品介紹

清潔臭氧發生器

住友的臭氧發生器採用板型放電係統,通過電能將部分原料氣體轉化為臭氧。
為了生成清潔的臭氧氣體,使用了高純度陶瓷的放電面,最大限度地抑制了粒子和金屬汙染的發生。作為放電方式,實現了業界頂級的臭氧濃度400g/m 3 (N) 的生成。
為了防止金屬汙染,還銷售採用獨特技術的無氮臭氧發生器。
在半導體和液晶等的制造工序中,幹法和濕法得到了眾多顧客的使用,並得到了很高的評價。

適用領域

  • 半導體
  • 各種晶片
  • FPD (LTPS、HTTPS、TFT、彩色濾鏡、OLED)
  • 光掩膜
  • LED
  • 其它電子器件材料的幹法及濕法

GRC系列

最大濃度400g/m 3 (N) 的標準系列。

規格
臭氧流量 1L/min~24L/min
〔210g/m 3 (N) 時〕
臭氧供給壓力 max.0.2MPa
冷卻水溫度 20℃±2℃
氮添加率 0.1%氧流量
外部尺寸 W483mm×D453mm×H266mm
重量 30~45kg
電源 AC200V 3相
特性
生成高濃度400g/m 3 (N) 的臭氧
可安裝在19英寸機架中的設備類型
從小流量到大流量的豐富產品陣容
高耐壓、長壽命的高可靠性放電電池
快速啟動和優異的濃度響應性
與臭氧濃度計連接,實現良好的濃度穩定性 (反饋控制)
CE和NRTL認證,符合SEMI標準
可從氟樹脂和SUS鋼中選擇氣體配管

GRCシリーズ流量特性
GRC系列
※縦型ユニットもございます

GRP系列

規格
臭氧流量 1.5L/min~5L/min〔350g/m 3 (N) 時〕
臭氧供給壓力 max.0.3MPa
冷卻水溫度 20℃±2℃
氮添加率 0.1%氧流量
外部尺寸 W483mm×D453mm×H266mm
重量 30~40kg
電源 AC200V 3相
特性
生成高濃度400g/m 3 (N)、高壓0.3MPa的臭氧
可安裝在19英寸機架中的設備類型
高耐壓、長壽命的高可靠性放電電池
快速啟動和優異的濃度響應性
與臭氧濃度計連接,實現良好的濃度穩定性 (反饋控制)
CE和NRTL認證,符合SEMI標準
可從氟樹脂和SUS鋼中選擇氣體配管

GRPシリーズ流量特性
GRシリーズ ※縦型ユニットもございます

GRF系列

是無氮添加且高濃度的臭氧發生器系列。

規格
臭氧流量 1L/min~24L/min〔210g/m 3 (N) 時〕
臭氧供給壓力 max.0.15MPa
冷卻水溫度 20℃±2℃
外部尺寸 W483mm×D453mm×H266mm
重量 30~45kg
電源 AC200V 3相
特性
在不添加氮氣的情況下生成高濃度400g/m 3 (N) 的臭氧
可安裝在19英寸機架中的設備類型
從小流量到大流量的豐富產品陣容
高耐壓、長壽命的高可靠性放電電池
快速啟動和優異的濃度響應性
與臭氧濃度計連接,實現良好的濃度穩定性 (反饋控制)
CE和NRTL認證,符合SEMI標準
可從氟樹脂和SUS鋼中選擇氣體配管

GRFシリーズ流量特性
GRF系列 ※縦型ユニットもございます

SGRC/SGRP/SGRF系列

採用GRC/GRP/GRF系列並配備外圍設備的系列。
可對應各種需求進行各種定制。

裝置例1《高濃度多氣體供給臭氧發生器SGRP-03JS》
臭氧濃度 350g/m3(N)
臭氧流量 15L/min《5L/min×3Line》
冷卻水溫度 20℃±2℃
外部尺寸 W570mm×D850mm×H1,870mm
重量 360kg
電源 AC200V 3相
裝置例2《無氮添加高濃度臭氧發生器SGRF-03JA》
臭氧濃度 400g/m3(N)
臭氧流量 20L/min
冷卻水溫度 5℃
外部尺寸 W570mm×D850mm×H1,836mm
重量 350kg
電源 AC200V 3相
特性
配備GRC/GRP/GRF系列,可根據客戶需求定制,例如大流量和多氣體供應
內置臭氧濃度計實現了良好的濃度穩定性 (反饋控制)
CE和NRTL認證,符合SEMI標準
可從氟樹脂和SUS鋼中選擇氣體配管

SGRF-03XA流量特性
SGRP-03JS

SG-HE系列

搭載了臭氧發生器和周邊設備的小型系列。

規格
臭氧流量 4L/min~14L/min〔210g/m 3 (N) 時〕
冷卻水溫度 20℃±2℃
外部尺寸 W450mm×D600mm×H1,030mm
重量 100~110kg
電源 AC200V 3相
特性
內置流量和壓力控制設備的獨立設置型
從小流量到大流量,產品種類繁多
高耐壓、長壽命的高可靠性放電電池
快速啟動和優異的濃度響應性
與臭氧濃度計連接,實現良好的濃度穩定性 (反饋控制)
可從氟樹脂和SUS鋼中選擇氣體配管

SG-HEシリーズ流量特性
SG-HE系列

SGU系列 (大流量型)

主要規格
臭氧濃度 300g/m3(N)
臭氧流量 140L/min、175L/min、210L/min(200g/m3(N))
外部尺寸 W700×D900×H2,154 (140L/min)
冷卻水溫度 20±2℃
冷卻水流量 >48L/min
電源 AC200V 3相
特性
生成高達210L/min的大流量臭氧
高耐壓、長壽命的高可靠性放電電池
快速啟動和優異的濃度響應性
與臭氧濃度計連接,實現良好的濃度穩定性 (反饋控制)
用途
ALD成膜
SGUシリーズ

超高濃度型

規格
臭氧濃度 400g/m3(N)
臭氧流量 20L/min
外部尺寸 (主體) W600×D810×H1,850
冷卻器冷卻水溫 30L/min (水溫20°C時)
電源 AC200V 3相
特性
實現了400g/m 3 (N) 以上的高濃度臭氧發生
占地面積小,體積小
配備水冷式冷卻器
高耐壓、長壽命的高可靠性放電電池
快速啟動和優異的濃度響應性
與臭氧濃度計連接,實現良好的濃度穩定性 (反饋控制)
用途
ALD成膜

多功能一體GRF系列

主要規格
臭氧濃度 210g/m3(N)
臭氧流量 1L/min~14L/min
外部尺寸 (主體) W483× H266× D454
冷卻水溫度 20±2℃
冷卻水流量 1~10L/min
電源 AC200V 3相
特性
可安裝在19英寸機架中的設備類型
內置流量和壓力控制設備
與臭氧濃度計連接,實現良好的濃度穩定性 (反饋控制)
高純度/臭氧 (採用全陶瓷結構放電單元)
高耐壓、長壽命的高可靠性放電電池
快速啟動和優異的濃度響應性
用途
半導體、FPD和其他電子器件材料的幹法和濕法
GRシリーズ



清潔臭氧水制備裝置

住友的清潔臭氧水制造裝置是將清潔臭氧發生器產生的臭氧氣體溶解到超純水中,生成臭氧水的裝置。
將微粒和金屬汙染的溶出抑制到極限,在半導體、液晶、其他電子設備材料的制造工序中,用於去除有機物和表面改質等用途,受到眾多客戶的好評。

適用領域

  • 半導體
  • 各種晶片
  • FPD (LTPS、HTTPS、TFT、彩色濾鏡、OLED)
  • 光掩膜
  • HDD

SGX系列

獨立安裝類型

規格
臭氧水濃度 5~100ppm
臭氧水流量 1~120L/min
臭氧供水壓力 max.0.25MPa
原料氣體 氧氣,(二氧化碳作為濃度衰減抑制措施)
電源 AC200V 3相
特性
可處理高濃度、大流量
占地面積小,體積小
低運行成本(低功耗、更換部件少、放電單元壽命長)
高耐壓、長壽命的高可靠性放電電池
快速啟動和優異的濃度響應性
與臭氧濃度計連接,實現良好的濃度穩定性 (反饋控制)
CE和NRTL認證,符合SEMI標準
無中斷維護
也可對應無硝酸臭氧水

SGX-1G21SNCオゾン水流量特性
SGX-1G21SNC

分區類型

規格
臭氧水濃度 5~150ppm
臭氧水流量 1~90L/min
原料氣體 氧氣,(二氧化碳作為濃度衰減抑制措施)
電源 AC200V 3相
特性
因為是在使用點附近溶解,所以可以抑制配管輸送中的濃度衰減,經濟實惠
有助於減少占地面積 (可從1臺臭氧發生器向多個臭氧溶解部供氣)
可處理高濃度、大流量
低運行成本(低功耗、更換部件少、放電單元壽命長)
高耐壓、長壽命的高可靠性放電電池
與臭氧濃度計連接,實現良好的濃度穩定性 (反饋控制)
無中斷維護
也可對應無硝酸臭氧水
1 by N設計
1 by 3 設計例
SGX-1G21SNC

流量變型

規格
臭氧水濃度 5~30ppm
臭氧水流量 1~60L/min
原料氣體 氧氣 (作為濃度衰減抑制對策的二氧化碳)
電源 AC200V 3相
特性
根據臭氧水使用量改變流量 (減少純水使用量)
可向多個腔室供應臭氧水
通過採用噴射式溶解,實現了優異的濃度響應性
與臭氧濃度計連接,實現良好的濃度穩定性 (反饋控制)
無硝酸臭氧水
低運行成本(低功耗、更換部件少、放電單元壽命長)
高耐壓、長壽命的高可靠性放電電池
無中斷維護
SGXF


臭氧外圍設備

臭氧氣體/臭氧水分解器

將臭氧發生器產生的臭氧氣體和臭氧水制造裝置產生的臭氧水分解、無害化的機器。
最大限度減少對設備的負擔。

規格
我們會根據您的要求進行設計。
也支持互鎖等係統化。
特性
低運行成本(無需電源,使用壽命長)
可分解高濃度臭氧
(分解器表面會變熱但不會起火)
易於維護 (可作為工業廢棄物處理)

臭氧濃度計

是測量產生的臭氧氣體、臭氧水濃度的機器。

單獨銷售臭氧濃度計。
接受臭氧氣體、臭氧水濃度測定的咨詢。