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2024.2.27 お知らせ HPを更新致しました。是非アップデートした各ページをご覧ください。
  お知らせ  
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一般産業分野 オゾン発生機

SGA-T

オゾン発生量
5~500g/h

オゾン濃度
75~117g/m3(N)

SG

オゾン発生量
130g/h~3kg/h

オゾン濃度
10~120g/m3

SAGT

オゾン発生量
500g/h~12kg/h

オゾン濃度
40,120,150g/m3

Wedeco

オゾン発生量
12kg/h~

オゾン濃度
40,150,180g/m3

一般産業分野 オゾン処理システム

SPC

用途
・プール
・水族館
・動物園
・オゾン水製造

STS

用途
・小規模排水
・再利用水
・ビル中水
・親水

SRS

用途
・井水浄化
・工業用水浄化
・再利用水
(ビル中水など)

AOP

用途
・難分解性物質分解
・再利用水


半導体分野

GRC

窒素ガス添加、19インチラックへの搭載可能なユニットタイプ

GRP

高濃度400g/m3(N)、高圧力0.3MPaのオゾンを生成するユニットタイプ

GRF

窒素ガス無添加、19インチラックへの搭載可能なユニットタイプ

SGRC/SGRP/SGRF

GRC/GRP/GRFシリーズを組み込み、
周辺機器も搭載したシリーズ

SG-HE

流量や圧力の制御機器を内蔵した独立設置タイプ

SGU

最大210L/minの大流量タイプ

オールインワンGRF

流量や圧力の制御機器、温度計を内蔵した窒素ガス無添加のユニットタイプ

SGX

クリーンオゾン水製造装置