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Design

MEMSデバイス設計

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MEMSデバイス設計・カスタム設計による開発支援

製品アイデアを形にするMEMSデバイス設計から、試作・評価を見据えた開発支援を行っております。
当社では、用途や要求仕様に応じたカスタム設計・カスタム開発に対応し、構造設計・シミュレーションからプロセス設計まで一貫してサポートいたします。
圧電MEMS、超音波MEMS、光MEMSなど多様なデバイス設計実績をもとに、研究開発用途から製品化を前提とした設計まで柔軟に対応可能です。

当社の設計プロセスの特徴

01多様なMEMS特有のプロセスへの対応 02対応力の高い研究・開発環境 03最終的な製品化までを見据えたデバイス設計

多様なMEMS特有プロセスを考慮した設計対応

MEMSデバイスは、材料特性・構造形状・製造プロセスが相互に影響し合うため、設計段階からプロセス条件を考慮することが不可欠です。
当社では、圧電MEMSをはじめ、静電式・電磁式など複数方式のMEMSトランスデューサに対応し、用途や要求性能に応じた最適なデバイス構成を検討します。

研究・開発に強いMEMSデバイス設計環境

社内のMEMS開発環境に加え、米国に拠点を置くAMFitzgeraldとの連携により、先端的なMEMSデバイス設計や高難度な技術課題にも対応可能な体制を構築しております。研究開発段階での検証から、実用化を見据えた設計検討まで幅広くサポートいたします。

製品化・量産を見据えたMEMS試作設計

MEMS試作設計を通じて、将来的な量産移行を考慮したデバイス設計を行うことで、開発後工程での手戻りリスクを低減します。

MEMS試作設計

MEMS試作設計は、MEMSデバイスの製品化に向けて、設計内容やプロセス条件が実際の製造環境において成立するかを検証するための重要な設計フェーズです。
MEMSは微細構造・材料特性・製造プロセスが密接に関係しており、シミュレーションや理論設計だけでは性能や再現性を完全に予測することが難しい技術領域です。
そのため、試作段階で実デバイスを用いた検証を行い、設計・プロセスの妥当性を確認することが不可欠です。

MEMS試作設計フェーズでは、構造設計やFEM解析の結果をもとに、試作用デバイスとして成立する形へ設計を落とし込み、性能評価や製造上の課題抽出を行います。この段階での設計判断は、単なる性能確認にとどまらず、歩留まりや再現性、将来的な量産性にも大きく影響します。
試作設計を十分に行わないまま量産工程へ進むと、後工程での設計変更やプロセス修正により、開発期間の長期化やコスト増加を招くリスクがあります。

また、MEMS試作設計は新規デバイス開発だけでなく、既存設計の妥当性確認や用途変更に伴う再設計、量産前の最終検証など、
さまざまな目的で活用されます。そのため、必ずしもフルスケールの開発を前提とするものではなく、試作設計のみを切り出して実施するケースも少なくありません。
まずはお気軽にご相談ください。

お問い合わせ

MEMSデバイス設計プロセス

MEMSデバイス設計では、単一の工程を最適化するだけでなく、技術戦略の立案から試作・少量生産までを一連のプロセスとして設計することが重要です。技術戦略・構造設計・プロセス設計・試作・少量生産の各フェーズを一貫して対応することで、性能・量産性・再現性を総合的に検証します。

MEMSデバイス設計プロセス

自社内において構造設計から製品化や量産化を考慮したデバイス設計を行います。
また米国に拠点を置くAMFitzgeraldとも提携関係を結び、高度な課題への解決を図る体制を整えています。

【参考】当社との提携関係を築くAMFitzgerald

技術戦略の策定

MEMSデバイス設計の初期段階では、用途や要求仕様をもとに、デバイス構造・材料・プロセスの方向性を定める開発計画を策定いたします。
単性能要件を満たすだけでなく、将来的な量産性やコスト構造、製造リスクまでを考慮した全体設計を行うことで、後工程での手戻りを防ぎます。

構造設計・シミュレーション(FEM解析)

開発計画に基づき、MEMSデバイスの微細構造設計を行います。
構造設計では、力学特性や共振特性、変位量などをFEM解析により事前に検証し、設計段階で性能の見通しを立てます。MEMSは微細構造であるがゆえに、わずかな形状差や材料条件が性能に大きく影響するため、シミュレーションによる検討は欠かせない工程です。

構造設計・シミュレーション

FEMによるモデル解析事例

構造体における複数の要素を細分化し、各接点とその間の中間接点を加えることで計算精度を高めることができます。強度解析や振動解析を行うことで製品の実現に向けた設計段階での問題点を洗い出すことが可能です。

プロセス設計・試作・評価

シミュレーション結果をもとに、デバイス構造を確定し、プロセス設計およびMEMSプロトタイプ試作を行います。圧電MEMSを中心としたデバイスにおいて、設計とプロセスの整合性を重視した試作設計を実施いたします。
試作段階では、シミュレーションでは把握しきれないプロセスばらつきや構造誤差が性能に与える影響を評価し、性能・歩留まり・再現性の観点から検証を行います。この工程で得られた結果は、設計改善やプロセス条件の最適化に反映され、次工程である量産検討に向けた重要な判断材料となります。
※ 成膜・エッチングなどの詳細プロセスについては、MEMSファンドリー開発ページにて詳しくご紹介しています。

ウエハ調整
洗浄・熱酸化膜生成
ウエハ調整洗浄・熱酸化膜生成
レジスト塗布
成膜
レジスト塗布成膜
パターン露光・
現像
パターン露光・現像
エッチング
エッチング
中空構造の
形成
中空構造の形成
プロセス完了
プロセス完了
ウエハ調整・洗浄・熱酸化膜生成
レジスト塗布成膜
パターン露光・現像
エッチング
中空構造の形成
プロセス完了

少量生産・量産検討

試作結果をもとに、少量生産や量産を見据えた設計調整を行います。プロセスばらつきやコスト、量産時の再現性を考慮しながら、安定した製品化と量産移行を見据えた設計調整を行います。

当社の開発環境

各種のMEMSデバイス開発用の装置を社内に保有しているため、一元管理で試作開発を行うことができます。

実装機

プローバー

カンチレバー評価

XRD

MEMSデバイス設計・開発事例

技術 電磁式 静電式 圧電式 その他
センサ
設計例
電磁式センサ

電磁式センサ

静電式センサ

静電式センサ

圧電式センサ

圧電式センサ

焦電式センサ

焦電式センサ

アクチュエータ
設計例
電磁式アクチュエータ

電磁式
アクチュエータ

静電式アクチュエータ

静電式
アクチュエータ

圧電式アクチュエータ

圧電式
アクチュエータ

熱式アクチュエータ

熱式
アクチュエータ